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マスクの挙動解析

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マスクの挙動解析
シールマーカーを用いてマスクの表面挙動を計測しました。複数点の座標を同時に計測することで算出したい箇所の伸縮や変位量を解析することが可能です。
通常の反射マーカーでは重さの影響をうけやすい布等では、計測が困難になります。
しかし、シールマーカーを使用することで、比較的影響をうけずに三次元計測することが可能です。


使用機材



撮影条件

  • 撮影速度:120Hz
  • 使用カメラ台数:6台
  • 計測空間:H1.5m×W1.5×D1.5m


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